Understanding of hybrid PVD-PECVD deposition process – titanium magnetron sputtering in argon and acetylene

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

SCHMIDTOVÁ Tereza SOUČEK Pavel VAŠINA Petr

Rok publikování 2011
Druh Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Popis Hybrid PVD-PECVD process of titanium magnetron sputtering in argon and acetylene atmosphere combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and acetylene as a source of carbon for polymerization (PECVD). It has been used for deposition of nanocomposite material consisting of nanocrystallites of titanium carbide embedded in hydrogenated carbon matrix (nc-TiC/a-C:H) which is an industrially attractive material for protective coatings. The aim of this contribution is to describe and understand elementary processes influencing the deposition process. Evolution of discharge voltage and current, pressure and selected spectral line intensities as a function of acetylene supply flow is reported.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.