Nano-modification of Si-wafer surfaces using low-cost ambient air diffuse plasma

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ekonomicko-správní fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

HOMOLA Tomáš PRYSIAZHNYI Vadym STUPAVSKÁ Monika

Rok publikování 2015
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj International Journal of Nanomanufacturing
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://www.inderscience.com/info/inarticle.php?artid=75226
Doi http://dx.doi.org/10.1504/IJNM.2015.075226
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova nano-modification;silicon wafer;surface treatment;diffuse plasma;DBD
Popis In this paper, we demonstrated the cleaning and nano-oxidation of Si-wafer surfaces by atmospheric pressure plasma, generated in ambient air using diffuse coplanar surface barrier discharge. Plasma treatment for one second resulted in a significant reduction of water contact angle. The increase in wettability was observed and explained by chemical changes on the analysed Si-wafer surfaces. These changes were analysed by X-ray photoelectron spectroscopy which showed a considerable decrease in the presence of carbon and a significant increase of oxygen on the analysed surfaces.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.